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      “中国芯”关键宝博国产化

      三甲硅烷基胺 （TSA）
      • 中文名：三甲硅烷基胺
      • 英文名：Trisilylamine
      • CAS号：13862-16-3
      • 用途：通过流动化学气相沉积（FCVD）形成氧化硅
      • 纯度指标：99.65%
      • 规格：公斤级
      二异丙氨基硅烷 （DIPAS）
      • 中文名： 二异丙氨基硅烷
      • 英文名：Diisopropylaminosilane
      • CAS号：908831-34-5
      • 用途：形成晶种
      • 纯度指标：8N
      • 规格：公斤级
      三乙硅烷基胺 （TDSA）
      • 中文名：三乙硅烷基胺
      • 英文名：Trisdisilanylamine
      • CAS号：14635-45-1
      • 纯度：≥98.0%
      • 用途：通过化学气相沉积（CVD）或原子层沉积（ALD）形成含硅薄膜
      • 规格：公斤级
      1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷 （TADS）
      1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷 （TADS）
      • 中文名：1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷
      • 英文名：1，1，1-Tris(dimethylamino)disilane
      • CAS号：2273763-87-2
      • 纯度：≥99.0%
      • 用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成高密度氧化硅
      • 规格：公斤级
      二异丙氨基乙硅烷 （DPDS）
      • 中文名：二异丙氨基乙硅烷
      • 英文名：Diisopropylaminodisilane
      • CAS号：151625-25-1
      • 纯度：≥99.0%
      • 用途：通过气相沉积形成晶种层
      • 规格：公斤级
      1，1-二氯-1-二异丙氨基乙硅烷 （DCDADS）
      • 中文名：1，1-二氯-1-二异丙氨基乙硅烷
      • 英文名：1，1-Dichloro-1-diisopropylaminodisilane
      • CAS号：2152681-89-3
      • 纯度：≥99.0%
      • 用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成氮化硅
      • 规格：公斤级
      五氯乙硅烷 （PCDS）
      • 中文名：五氯乙硅烷
      • 英文名：Pentachlorodisilane
      • CAS号：31411-98-0
      • 纯度：≥99.0%
      • 用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成氮化硅
      • 规格：公斤级
      1，1，1-三氯乙硅烷 （3CDS）
      • 中文名：1，1，1-三氯乙硅烷
      • 英文名：1，1，1-Trichlorodisilane
      • CAS号：78228-96-3
      • 纯度：≥99.0%
      • 用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成氮化硅
      • 规格：公斤级
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